弊社 HiPIMS電源が第11回岩木賞　奨励賞を受賞

高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発

弊社東京電子は、岡山理科大学技術科学研究所と共同でこのほど 「高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発」の業績に対し、トライボコーティング技術研究会、

未来生産システム学協会 （NPS） などからなる岩木賞審査委員会が選定をおこなう 「第 11回岩木トライボコーティングネットワークアワード ( 岩木賞 )」 の奨励賞を受賞いたしました。

■高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering、大電力パルスマグネトロンスパッタ)は低いDuty比で高い電力を瞬間的にカソードに投入し高密度のプラズマを形成する手法であり、高性能な機能性薄膜を作製するには極めて有効な手段で、自動車部品用、機械工具用のハードコーティング等では製品化が進んでいます。

またセンサーデバイス用の反射防止膜、電子デバイス用のバリア膜等、多様なアプリケーションでの応用が期待されています。弊社では成膜中の膜品質を低下させるアーク異常放電、生産性を損なう低い成膜レートなどの実際に起こる問題を克服し、さらなる性能向上させたHF-HiPIMSを開発し、その業績を評価されました。

※本件に関する技術資料が必要な方はsales@toei.localまでご請求下さい。

＜関連情報＞

・岩木賞について

https://sites.google.com/site/npstwebsite/biao-zhang-xian-zhang/di4hui-yan-mu-shang-mu-ji

・Mechanical SurfaceTech

http://surface.mechanical-tech.jp/node/3641

■ 本件に関するお問い合わせ

　　東京電子株式会社　　　

　　〒185-0012　東京都国分寺市本町2-22-7

　　TEL ： 042-329-5090　E-mail ： sales@toei.local

　　URL ： https://www.toel.co.jp/index.html

　※ こちらに掲載されている情報は、 発表日現在の情報です。 最新の情報と異なる場合がありますの でご了承ください。