弊社 HiPIMS電源が2019年度SP部会賞 受賞
アーク異常放電を引き起こすチャージアップの問題を解決するため、新たに開発された弊社独自のHF（Hi-Frequency）パルス電源（特願No.2018-007823平成30弊社 HiPIMS電源が2019年度 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP 部会）SP部会賞を受賞いたしました。
受賞タイトル：
「アーク抑制および成膜レート向上を目的とした大電力パルススパッタ電源の技術開発」
弊社東京電子は、「アーク抑制型HiPIMS電源」を開発しその業績が評価され、この度（公社）日本表面真空学会主催のSP部会賞を受賞いたしました。
年12月18日特許成立済）で通常のHiPIMSにくらべ23%までアーク異常放電を軽減させることに成功。
これにより高品質、高機能な成膜を実現することができ、その業績が評価されました。
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