弊社 HiPIMS電源が第11回岩木賞　奨励賞を受賞

弊社 HiPIMS電源が第11回岩木賞奨励賞を受賞

高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発

弊社東京電子は、岡山理科大学技術科学研究所と共同でこのほど「高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発」の業績に対し、トライボコーティング技術研究会、

未来生産システム学協会（NPS）などからなる岩木賞審査委員会が選定をおこなう「第 11回岩木トライボコーティングネットワークアワード ( 岩木賞 )」の奨励賞を受賞いたしました。

■高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering、大電力パルスマグネトロンスパッタ)は低いDuty比で高い電力を瞬間的にカソードに投入し高密度のプラズマを形成する手法であり、高性能な機能性薄膜を作製するには極めて有効な手段で、自動車部品用、機械工具用のハードコーティング等では製品化が進んでいます。

またセンサーデバイス用の反射防止膜、電子デバイス用のバリア膜等、多様なアプリケーションでの応用が期待されています。弊社では成膜中の膜品質を低下させるアーク異常放電、生産性を損なう低い成膜レートなどの実際に起こる問題を克服し、さらなる性能向上させたHF-HiPIMSを開発し、その業績を評価されました。

※本件に関する技術資料が必要な方はsales@toei.localまでご請求下さい。