弊社 HiPIMS電源が2020年度 日本表面真空学会　産業賞を受賞

弊社 HiPIMS電源が2020年度 日本表面真空学会　産業賞を受賞いたしました。　　

受賞タイトル：
「大電力パルススパッタリング法（HiPIMS）用の電源を自社で開発、異常放電を抑 制しながら成膜速度を向上」

弊社東京電子は、「アーク抑制型HiPIMS電源」を開発しその業績が評価され、この度（公社）日本表面真空学会主催の産業賞を受賞いたしました。

【アーク抑制型HiPIMS電源】
アーク異常放電を引き起こすチャージアップの問題を解決するため、新たに開発された弊社独自のHF（Hi-Frequency）パルス電源（特願No.2018-007823平成30年12月18日特許成立済）で通常のHiPIMSにくらべ23%までアーク異常放電を軽減させることに成功。
これにより高品質、高機能な成膜を実現することができ、その業績が評価されました。
※本件に関する技術資料が必要な方はsales@toel.co.jpまでご請求下さい。

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