HiPIMS用パルス電源
・パルス電源
・電源装置
HiPIMS用パルス電源
HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)とは、スパッタリングの一種で、低いduty比で集中させた高い電力を、瞬間的にカソードに投入することで高密度のプラズマを形成する手法です。この方法による成膜は、表面の平滑性が良い、緻密な膜ができる等、様々な利点がございます。
ご興味のあるお客様は、こちらからお問い合わせ下さい。
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HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)とは、スパッタリングの一種で、低いduty比で集中させた高い電力を、瞬間的にカソードに投入することで高密度のプラズマを形成する手法です。この方法による成膜は、表面の平滑性が良い、緻密な膜ができる等、様々な利点がございます。
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